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等离子体刻蚀工艺及设备
AZW3 / 赵晋荣 / 电子工业出版社 / 2023-01 / 本书系统介绍了等离子体刻蚀工艺及设备的核心知识，涵盖等离子体物理基础、刻蚀机理、工艺参数优化及设备结构与控制等关键内容。全书从等离子体产生原理出发，深入解析了刻蚀过程中的物理溅射与化学反应协同作用，详细阐述了不同刻蚀气体、压力、功率等参数对刻蚀速率、选择比和形貌的影响规律。- 3
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刻蚀设备
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